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                    圖形化工藝

                    發布時間:2020-10-29   點擊次數:340次

                    圖形化工藝是半導體工藝過程中重要的工序之一,它是用來在不同的器件和電路表面上建立平面圖形的工藝過程。這個工藝過程的目標有兩個,首先是在晶圓表面上產生圖形,這些圖形的尺寸在集成電路或器件設計階段建立;第二個目標是將電路圖形正確地定位于晶圓表面。整個電路圖形必須被正確地置于晶圓表面,它們與晶圓襯底的相對晶向,以及電路圖形上單獨的每一部分之間的相對位置也必須是正確的。

                    圖形化工藝是一種基本操作,在操作結束時,晶圓表面層上將剩下孔洞或島區。圖形化工藝也經常被稱為光刻( Photolithography )。圖形化工藝過程主要分為光刻工藝和刻蝕工藝

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